CobaltMaghrebV1, France, Analysis, bibRecord, 000405

Faisabilité et croissance avec haute reproductibilité de multicouches métalliques à magnétorésistance géante par pulvérisation diode RF

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Faisabilité et croissance avec haute reproductibilité de multicouches métalliques à magnétorésistance géante par pulvérisation diode RF

Auteurs : J. B. Youssef [France] ; H. Le Gall [France] ; K. Bouziane [France] ; M. El Harfaoui [Maroc] ; O. Koshkina [France] ; J. M. Desvignes [France] ; A. Fert [France]

Source :

Journal de physique. IV [ 1155-4339 ] ; 1996.

RBID : Pascal:97-0188156

Descripteurs français

Pascal (Inist)
- Etude expérimentale, Couche mince, Multicouche, Croissance cristalline en phase vapeur, Pulvérisation haute fréquence, Mode opératoire, Magnétorésistance géante, Interface solide solide, Texture, Rugosité, Relation structure propriété, Effet dimensionnel, Cobalt, Cuivre, 8115C, 6865, 7570P, Co, Cu.
Wicri :
- topic : Cobalt, Cuivre.

English descriptors

KwdEn :
- Cobalt, Copper, Crystal growth from vapors, Experimental study, Giant magnetoresistance, Multilayers, Operating mode, Property structure relationship, Radiofrequency sputtering, Roughness, Size effect, Solid-solid interfaces, Texture, Thin films.

Abstract

Les objectifs du présent travail sont de deux ordres : d'abord obtenir le rapport de MRG, ΔR/R, le plus élevé dans des multicouches Co/Cu élaborées à partir du procédé inhabituel de pulvérisation par diode radiofréquence (RF). En second, analyser les corrélations entre la MRG d'une part et les textures et rugosités interfaciales déduites des diffractions X aux petits et glands angles et de la microscopie à force atomique (MFA) d'autre part. A cet effet, nous avons cherché à induire différentes structures interfaciales en modifiant les paramètres de pulvérisation (pression du gaz pulvérisant P_Ar) ce qui, par ailleurs, a permis de definir les conditions optimales de dépôt pour l'obtention d'une MRG élevée. L'influence de l'épaisseur t_co du film Co a été étudiée pour une épaisseur du film de Cu = 9Å correspondant au premier maximum de la dépendance oscillatoire avec t_cu du rapport de MRG. De ces résultats, nous concluons que le paramètre pertinent est la rugosité interfaciale qui induit un effet important à la fois sur la MRG et sur la résistivité des super-réseaux. Un changement de pente de Rs^-1 en fonction de t²_co est attribué à une augmentation de l'effet de rugosité quand t_co décroît de l'échelle mésoscopique (t_co> 25Å) vers l'échelle nanoscopique (t_c0< 25Å).

Affiliations:

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 du rapport de MRG. De ces résultats, nous concluons que le paramètre pertinent est la rugosité interfaciale qui induit un effet important à la fois sur la MRG et sur la résistivité des super-réseaux. Un changement de pente de Rs<sup>-1</sup>
 en fonction de t<sup>2</sup>
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 est attribué à une augmentation de l'effet de rugosité quand t<sub>co</sub>
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